Hafnium tetraxloride | HFCL4 tozu | CAS 13499-05-3 | fabrik qiyməti

Hafnium tetraxloride | HFCL4 tozu | CAS 13499-05-3 | Zavod Qiyməti Xüsusi Şəkil

Qısa təsvir:

Hafnium tetrachloride, hafnium oksidi, üzvi sintez, nüvə tətbiqləri və nazik film çöküntüsünün, incə film çöküntüsünün və müxtəlif texnoloji sahələrdə əhəmiyyətini vurğulayan mühüm tətbiqlərə malikdir.

More details feel free to contact: erica@epomaterial.com

Bizə e-poçt göndər

Məhsul təfərrüatı

Məhsul etiketləri

Məhsul təsviri

Qısa giriş

Məhsulun adı: Hafnium tetraxloride
CAS No.: 13499-05-3
Mürəkkəb formula: hfcl4
Molekulyar çəki: 320.3
Görünüşü: Ağ toz

Xüsusiyyət

Maddə	Xüsusiyyət
Görünüş	Ağ toz
Hfcl4 + zrcl4	≥99.9%
Zr	≤200ppm
Fe	≤40ppm
Ti	≤20ppm
Si	≤40ppm
Mg	≤20ppm
Cr	≤20ppm
Ni	≤25ppm
U	≤5ppm
Al	≤60ppm

Tətbiqi

Hafnium dioksid prekursoru: Hafnium tetraxlorid, ilk növbədə, əla dielektrik xüsusiyyətləri olan bir material, hafnium dioksid (HFO2) istehsal etmək üçün bir prekursor kimi istifadə olunur. HFO2, yarımkeçirici sənayesində tranzistorlar və kondanmçılar üçün yüksək-k dielektrik tətbiqlərində geniş istifadə olunur. HFCL4, hafnium dioksidinin nazik filmləri yaratmaq qabiliyyəti səbəbindən inkişaf etmiş elektron cihazların istehsalında vacibdir.
Üzvi sintez katalizatoru: Hafnium tetracloride müxtəlif üzvi sintez reaksiyalarının, xüsusən də olefin polimerləşməsi üçün bir katalizator kimi istifadə edilə bilər. Lewis turşusu xüsusiyyətləri aktiv vasitəçilər meydana gətirməyə və bununla da kimyəvi reaksiyaların səmərəliliyini artırmağa kömək edir. Bu proqram, kimya sənayesində polimerlərin və digər üzvi birləşmələrin istehsalında dəyərlidir.
Nüvə tətbiqi: Yüksək neytron udma çarpazlığı səbəbindən hafnium tetraxlorid nüvə tətbiqlərində, xüsusən nüvə reaktorlarının nəzarət çubuqlarında geniş istifadə olunur. Hafnium neytronları effektiv şəkildə udmaq olar, buna görə də nüvə enerjisi istehsalının təhlükəsizliyini və səmərəliliyini yaxşılaşdırmağa kömək edən fission prosesinin tənzimlənməsi üçün uyğun bir materialdır.
Nazik film çöküntüsü: Hafnium tetraxlorid, hafnium əsaslı materialların nazik filmlərini yaratmaq üçün kimyəvi buxar çöküntüsündə (CVD) proseslərində istifadə olunur. Bu filmlər müxtəlif tətbiqlərdə, o cümlədən mikroelektronika, optika və qoruyucu örtüklərdə vacibdir. Vahid, yüksək keyfiyyətli filmlər depozit etmək bacarığı HFCL4-ni qabaqcıl istehsal proseslərində qiymətli hala gətirir.